国际半导体设备及材料展览暨研讨会开幕公司主办的《集成电路应用》杂志受到关注。2000年国际半导体设备及材料展览暨研讨会，于3月15日至16日在上海国际展览中心举行。
参加展览会是国内外一些半导体设备生产商、材料供应商和代理商等，展览会展出了目前世界上较先进的集成电路制造的设备样品和资料。我公司有关部门领导出席了展览会开幕式。在为期两天的展会期间，公司大部分工程技术人员前去参观，了解行业信息技术发展的最新动态，并与对口供应商进行了现场技术交流，同时还参加了在展览会上举办具有国际先进水平的，半导体材料、工艺技术以及测试封装等技术讲座。这使大家对目前世界集成电路的发展动向有了进一步的了解。
展览会上，由我公司主办的《集成电路应用》杂志也参加了展出，这是一本学术性和应用性均很强的杂志，引起了与会人员的浓厚兴趣，不少参观者还留下名片或通讯地址，希望能得到《集成电路应用》杂志和公司的产品介绍。
据会议组织者称，随着中国半导体产业的迅速发展和世界半导体市场的急剧回升，今年在上海举行的国际半导体设备及材料展览会的规模和参观人数均比以前有较大幅度的增加，这也反映出我国半导体产业在国际同行中的地位正在日益增高。
《集成电路应用》杂志是一本学术性和应用性均很强的杂志，反映出我国半导体产业的发展。杂志由中国电子信息产业集团有限公司主管，在上海市创刊。
杂志栏目：
市场分析、业界风云、新技术聚焦、应用专题、新产品速递、区域动态。
期刊收录论文目录：
集成电路产业要全盘规划周玉梅
我国集成电路产业面临的问题、挑战和发展途径于燮康
集成电路、通讯、大数据领域的十三五规划要点分析陈平 朱劲松 钟奇
融智、融芯、融天下——Semicon中国2016展会及技术论坛艾恩溪
面对国际并购案,中国半导体业发展的新机遇陈炳欣
汽车智能化与驾驶信息系统创新傅柯思
EUV微影技术与7nm工艺麦利
在不同的半导体制造技术间高效转换集成光路设计的方法A.Sosa K.Welikow R.Broeke A.Bakker D.Tsiokos T.Tekin N.Pleros 王博文 王杰
各大半导体巨头制程工艺发展近况解读Fison
浅析英特尔14nm工艺优势威锋
半导体元器件分销商发展策略研究荣毅
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